半导体及集成电路
增强人的能力，促进创新
我们不断努力了解客户在真空环境抓取和清洁环境要求方面的挑战。我们为作为真空环境抓取和清洁环境解决方案供应商的领先地位感到自豪，以支持我们的客户生产力目标。
为半导体在内的微电子器件制造商提供更多的系统服务
我们继续创新领先的技术解决方案，这将提高您的流程启动时间、产量、吞吐量和安全合规性，同时努力通过减少环境排放和延长产品使用寿命，减少持续服务成本，平衡降低拥有成本这一经常相互矛盾的要求。
我们服务于领先的半导体制造工厂，并努力成为一流的半导体制程设备服务商，我们的产品和技术被设计成满足现有和发展过程的特定要求。提供各种高端运用及严苛制程产品及服务，如静电吸盘、洁净室系统、真空设备系统等，以优化从轻负荷到最重负荷过程的各种应用性能。
在半导体中段制造领域，我们的静电吸盘用于PVD物理气相沉积，CVD化学气相沉积，ETCH干刻蚀等严苛制程的晶圆真空夹持；在中后段先进封装领域薄化制程，静电吸盘提供强劲稳定的晶圆夹持方式，实现晶圆薄化良率的提升及EFEM/Sorter的高效率。
我们是中国领先的Mca/Aln静电吸盘制造商和翻新商，我们密切关注和积极参与半导体技术的发展创新，一直在研究PVD物理气相沉积，CVD化学气相沉积，ETCH干刻蚀等严苛制程的静电吸盘（LAM、TEL、AMAT）的可再生技术及修理翻新，在这一领域，我积累了丰富的技术经验。
探索产品和相关服务解决方案
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先进静电卡盘事业
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在半导体中段制造领域，我们的静电吸盘用于PVD物理气相沉积，CVD化学气相沉积，ETCH干刻蚀等严苛制程的晶圆真空夹持；在中后段先进封装领域薄化制程，静电吸盘提供强劲稳定的晶圆夹持方式，实现晶圆薄化良率的提升及EFEM/Sorter的高效率。
我们是中国领先的Mca/Aln静电吸盘制造商和翻新商，我们密切关注和积极参与半导体技术的发展创新，一直在研究PVD物理气相沉积，CVD化学气相沉积，ETCH干刻蚀等严苛制程的静电吸盘（LAM、TEL、AMAT）的可再生技术及修理翻新，在这一领域，我积累了丰富的技术经验。
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